■常に終焉説が囁かれる「ムーアの法則」
ムーアの法則とは、1965年に米インテルの創業者の一人、ゴードン・ムーア氏が提唱した「半導体のトランジスタの
集積度は2年で2倍になる」という法則である。
集積度を2倍にする際、トランジスタの寸法が変わらなければ半導体チップが巨大化していく。
そうならないように、集積度の向上とともにトランジスタの寸法を微細化する。
したがって、ムーアの法則と微細化は表裏一体の関係にある。
ムーアの法則が提唱されてから50年が経過したが、その間に何度もその終焉説が囁かれた。
なぜなら、半導体の微細加工技術が幾度となく困難に直面したからだが、半導体業界はその都度、壁をブレークス
ルーしてきた。
その具体的な一例を示そう。
筆者は2007年、リソグラフィ技術に関わっている世界のキーパーソンたちに、「半導体微細化の限界は何nm（ナノ
メートル）か？」というインタビューを行った。
リソグラフィ技術とは、半導体ウエハ上に微細なパターンを形成する技術で、半導体製造工程の中で最も重要な技
術の一つである。
Business Journal[2015.06.24]文＝湯之上隆／微細加工研究所所長
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図1
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図2
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図3
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図４
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図5
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